Máquina pulidora mecánica química (CMP)

EXPERTO en mecanizado plano ultrapreciso

Centrarse completamente en el mecanizado plano ultrapreciso desde el establecimiento de LSTD. Desarrollar e introducir productos y tecnologías de lapeado/pulido nuevos y avanzados a clientes de todo el mundo; Con una rica experiencia en mecanizado plano de ultra precisión, LSTD se dedica a brindar a nuestros clientes en todo el mundo soluciones totales confiables.

Experiencia obtenida a partir de Know-hows integrados en diferentes materiales.

Las industrias a las que servimos incluyen: semiconductores, optoelectrónica, óptica de precisión, cerámica de precisión, plantas nucleares, explotación de petróleo y aplicaciones industriales.

Dedicados a brindar soluciones totales personalizadas

Satisfaga una gama completa de demandas de los clientes, desde máquinas y modificación de máquinas, consumibles, desarrollo de procesos y servicio de subcontratistas.

 

 

 

 

 

Máquina de pulido mecánico químico (CMP)

 

CP Chemical Mechanical Polishing Machine

Máquina pulidora mecánica química CP (máquina CMP)

  • La serie CMP puede procesar fabricantes de materiales semiconductores como SI, SIC, GaAs, lnP, GaN, CdTe, diamante, etc.
  • Tamaño del diámetro de la placa de 381 mm a 1500 mm.
  • Diámetro del plato de presión de 139mm a 576mm.
  • Capacidad de carga de oblea 2 pulgadas 3 pulgadas 4 pulgadas 5 pulgadas 6 pulgadas 8 pulgadas 12 pulgadas

 

Precise wax bonding machine

Máquina de unión de cera precisa

  • La placa de presión, la placa de enfriamiento y otras piezas de presión planas o piezas de presión del equipo se rectifican para controlar su planitud y garantizar de manera efectiva la precisión del encerado.
  • Diámetro de la placa de presión 360 mm Máx.
  • temperatura de calentamiento 300 grados
  • Neumático; Máx. 350 kg
Multi-functional polishing machine

Máquina pulidora multifuncional

  • MFP-700A es una máquina pulidora multifuncional desarrollada específicamente para accesorios de equipos semiconductores.
  • Diámetro del mandril de vacío 450 mm, diámetro máximo de la pieza de trabajo 576 mm.
  • Aplicación típica: Anillo de grabado de silicona, Anillo de grabado de SiC, Electrodo superior de silicona, Cabezal de ducha
  • Distancia de movimiento horizontal de la placa de pulido:0-140mm
Automatic wafer debonding machine

Máquina desunadora automática de obleas

  • Es un equipo auxiliar en el taller de pulido de semiconductores que descarga automáticamente las obleas unidas a una placa de cerámica con cera usando una cuchilla cinceladora en el casete.
  • Se puede utilizar como un dispositivo independiente, lo que puede reducir eficazmente el riesgo de rotura de oblea, rayones, etc.
  • Mejora enormemente la eficiencia del raspado.

 

 

 

¿Por qué LSTD es tu mejor opción?

 

95,000 pies cuadrados de producción e inventario.

Centro de I+D de semiconductores y línea de pulido automático de obleas de SiC propia.

Un equipo dedicado de I+D con títulos de licenciatura o superior centrado en el desarrollo de procesos.
Soporte de ventas global, atendiendo a clientes de todo el mundo (EE. UU., Francia, Alemania, Singapur, Sudáfrica, etc.)

 

 

 

 

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flat lapping machine manufacturer

 

 

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Somos conocidos como uno de los principales fabricantes y proveedores de máquinas pulidoras químicas mecánicas (cmp) en China. Le damos una calurosa bienvenida a comprar una máquina pulidora mecánica química (cmp) personalizada a precios competitivos en nuestra fábrica. Buen servicio y productos de calidad están disponibles.

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